11 mar 2010
Fotovoltaico sottile e flessibile | Thin Film 2nd generation
In questi giorni stiamo osservando e cercando di capire l’evoluzione del fotovoltaico.
Come accennato nel post dove spiegavo cosa è la tecnologia Thin Film
Dalla sua creazione la tecnologia del fotovoltaico ha già subito numerosi sviluppi. Tra i passi più importanti ricordiamo :
- Fotovoltaico a concentrazione
- Fotovoltaico Thin Film
Adesso sembra che da studi tutti italiani si stia già evolvendo la neonata tecnologia del Thin Film.
Da tempo, infatti, il gruppo PlaSMa stà realizzando un progetto che tra le principali innovazioni ha il fatto di permettere che il silicio possa essere depositato sui supporti (la pellicola) lavorando a temperature molto più basse. Se nelle “tradizionali” celle Thin Film il silicio per essere depositato necessità di applicazioni laser che portano il supporto fino a 400° C, con la deposizione plasmochimica (il sistema studiato da PlaSMa) si può ottenere lo strato di silicio rimanendo sotto ai 100°C.
In questo modo è possibile utilizzare materiali più economici, più duttili, come per esempio la plastica che permetterebbero di realizzare celle flessibili per superfici curve.
Inoltre si la distribuzione del silicio risulta più omogenea migliorando l’efficienza dei pannelli e la realizzazione richiede molta meno energia in fase di produzione.
Questa tipologia di pannelli fotovoltaici dovrebbe approdare sul mercato nel giro di uno due anni.
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